
我们融合微波体加热的快速高效与超高真空的极致纯净,彻底解决了高端材料在热处理过程中面临的氧化、污染、致密度不足等核心痛点,助力您实现更快的研发周期、更优的材料性能与更高的工艺重复性。
一、产品特点
1、微波快速加热:微波独特的加热机理,直接作用于物料内部,实现快速升温,大幅缩短实验周期;
2、均匀加热:凭借独特的炉膛设计与微波馈能方式,确保物料受热均匀,有效避免局部过热或加热不足;
3、气氛控制系统:可实现微波真空烧结,结合微波的内部体加热与高真空的纯净环境,可实现更快速、更均
匀、更纯净的烧结过程亦可实现多种气氛环境(如氮气、氧气、氩气等),满足不同材料处理需求;
4、准确定温:配备高精度温度控制系统,确保炉内温度误差在±1℃以内,满足高精度实验需求;
5、安全保护:设备具备多重安全保护功能,如超温保护、漏电保护、过流保护等,确保实验安全;
6、易于操作:采用人性化设计,操作简单便捷,用户可通过触摸屏控制设备;
7、水路系统:水路采用自制铝制散热排进行冷却,内置不锈钢水箱和水泵。
二、应用领域
微波高真空管式炉适用于各类大中专院校、研究院、企业的实验室。
1、高端金属材料:锆合金、高熵合金(部分)、永磁材料等活性金属符合材料的无氧化烧结。
2、粉末冶金与硬质合金:铁基、铜基等制品,获得细晶粒、高硬度。
3、电子与半导体材料:半导体前驱体、靶材、微波介质陶瓷的合成。
4、前沿科学研究:高校及科研院所用于新材料合成机理、烧结动力学等研究。
三、产品参数
参数项目 | INNOV-HVS-T-002/110(高真空款) |
电源 | AC 380V ±10% , 50Hz |
额定温度 | 1150°C |
最高温度 | 1200℃ |
极限真空度 | ≤ 1 × 10⁻³ Pa |
真空系统 | 旋片式真空泵、分子泵 |
微波泄漏强度 | < 1mW/cm² |
控温方式 | 7寸触摸屏+PLC,多段程序控温 |
测温方式 | 红外测温仪(300-1800℃) |
四、我们的承诺
我们不仅提供高性能的设备,更提供全方位的技术支持与服务,确保您能充分发挥设备的潜力,加速研发进程。

我们融合微波体加热的快速高效与超高真空的极致纯净,彻底解决了高端材料在热处理过程中面临的氧化、污染、致密度不足等核心痛点,助力您实现更快的研发周期、更优的材料性能与更高的工艺重复性。
一、产品特点
1、微波快速加热:微波独特的加热机理,直接作用于物料内部,实现快速升温,大幅缩短实验周期;
2、均匀加热:凭借独特的炉膛设计与微波馈能方式,确保物料受热均匀,有效避免局部过热或加热不足;
3、气氛控制系统:可实现微波真空烧结,结合微波的内部体加热与高真空的纯净环境,可实现更快速、更均
匀、更纯净的烧结过程亦可实现多种气氛环境(如氮气、氧气、氩气等),满足不同材料处理需求;
4、准确定温:配备高精度温度控制系统,确保炉内温度误差在±1℃以内,满足高精度实验需求;
5、安全保护:设备具备多重安全保护功能,如超温保护、漏电保护、过流保护等,确保实验安全;
6、易于操作:采用人性化设计,操作简单便捷,用户可通过触摸屏控制设备;
7、水路系统:水路采用自制铝制散热排进行冷却,内置不锈钢水箱和水泵。
二、应用领域
微波高真空管式炉适用于各类大中专院校、研究院、企业的实验室。
1、高端金属材料:锆合金、高熵合金(部分)、永磁材料等活性金属符合材料的无氧化烧结。
2、粉末冶金与硬质合金:铁基、铜基等制品,获得细晶粒、高硬度。
3、电子与半导体材料:半导体前驱体、靶材、微波介质陶瓷的合成。
4、前沿科学研究:高校及科研院所用于新材料合成机理、烧结动力学等研究。
三、产品参数
参数项目 | INNOV-HVS-T-002/110(高真空款) |
电源 | AC 380V ±10% , 50Hz |
额定温度 | 1150°C |
最高温度 | 1200℃ |
极限真空度 | ≤ 1 × 10⁻³ Pa |
真空系统 | 旋片式真空泵、分子泵 |
微波泄漏强度 | < 1mW/cm² |
控温方式 | 7寸触摸屏+PLC,多段程序控温 |
测温方式 | 红外测温仪(300-1800℃) |
四、我们的承诺
我们不仅提供高性能的设备,更提供全方位的技术支持与服务,确保您能充分发挥设备的潜力,加速研发进程。