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微波高真空管式炉


真高温管式炉p2.png

我们融合微波体加热的快速高效与超高真空的极致纯净,彻底解决了高端材料在热处理过程中面临的氧化、污染、致密度不足等核心痛点,助力您实现更快的研发周期、更优的材料性能与更高的工艺重复性。


一、产品特点

1、微波快速加热:微波独特的加热机理,直接作用于物料内部,实现快速升温,大幅缩短实验周期;

2、均匀加热:凭借独特的炉膛设计与微波馈能方式,确保物料受热均匀,有效避免局部过热或加热不足;

3、气氛控制系统:可实现微波真空烧结,结合微波的内部体加热与高真空的纯净环境,可实现更快速、更均

   匀、更纯净的烧结过程亦可实现多种气氛环境(如氮气、氧气、氩气等),满足不同材料处理需求;

4、准确定温:配备高精度温度控制系统,确保炉内温度误差在±1℃以内,满足高精度实验需求;

5、安全保护:设备具备多重安全保护功能,如超温保护、漏电保护、过流保护等,确保实验安全;

6、易于操作:采用人性化设计,操作简单便捷,用户可通过触摸屏控制设备;

7、水路系统:水路采用自制铝制散热排进行冷却,内置不锈钢水箱和水泵。


二、应用领域

  微波高真空管式炉适用于各类大中专院校、研究院、企业的实验室

1、高端金属材料:锆合金、高熵合金(部分)、永磁材料等活性金属符合材料的无氧化烧结。

2、粉末冶金与硬质合金:铁基、铜基等制品,获得细晶粒、高硬度。

3、电子与半导体材料:半导体前驱体、靶材、微波介质陶瓷的合成。

4、前沿科学研究:高校及科研院所用于新材料合成机理、烧结动力学等研究。


三、产品参数

参数项目

INNOV-HVS-T-002/110(高真空款)

电源

AC 380V ±10% , 50Hz

额定温度

1150°C

最高温度

1200℃

极限真空度

≤ 1 × 10⁻³ Pa

真空系统

旋片式真空泵、分子泵

微波泄漏强度 

< 1mW/cm²

控温方式

7寸触摸屏+PLC,多段程序控温

测温方式

红外测温仪(300-1800℃)


、我们的承诺

我们不仅提供高性能的设备,更提供全方位的技术支持与服务,确保您能充分发挥设备的潜力,加速研发进程。



真高温管式炉p2.png

我们融合微波体加热的快速高效与超高真空的极致纯净,彻底解决了高端材料在热处理过程中面临的氧化、污染、致密度不足等核心痛点,助力您实现更快的研发周期、更优的材料性能与更高的工艺重复性。


一、产品特点

1、微波快速加热:微波独特的加热机理,直接作用于物料内部,实现快速升温,大幅缩短实验周期;

2、均匀加热:凭借独特的炉膛设计与微波馈能方式,确保物料受热均匀,有效避免局部过热或加热不足;

3、气氛控制系统:可实现微波真空烧结,结合微波的内部体加热与高真空的纯净环境,可实现更快速、更均

   匀、更纯净的烧结过程亦可实现多种气氛环境(如氮气、氧气、氩气等),满足不同材料处理需求;

4、准确定温:配备高精度温度控制系统,确保炉内温度误差在±1℃以内,满足高精度实验需求;

5、安全保护:设备具备多重安全保护功能,如超温保护、漏电保护、过流保护等,确保实验安全;

6、易于操作:采用人性化设计,操作简单便捷,用户可通过触摸屏控制设备;

7、水路系统:水路采用自制铝制散热排进行冷却,内置不锈钢水箱和水泵。


二、应用领域

  微波高真空管式炉适用于各类大中专院校、研究院、企业的实验室

1、高端金属材料:锆合金、高熵合金(部分)、永磁材料等活性金属符合材料的无氧化烧结。

2、粉末冶金与硬质合金:铁基、铜基等制品,获得细晶粒、高硬度。

3、电子与半导体材料:半导体前驱体、靶材、微波介质陶瓷的合成。

4、前沿科学研究:高校及科研院所用于新材料合成机理、烧结动力学等研究。


三、产品参数

参数项目

INNOV-HVS-T-002/110(高真空款)

电源

AC 380V ±10% , 50Hz

额定温度

1150°C

最高温度

1200℃

极限真空度

≤ 1 × 10⁻³ Pa

真空系统

旋片式真空泵、分子泵

微波泄漏强度 

< 1mW/cm²

控温方式

7寸触摸屏+PLC,多段程序控温

测温方式

红外测温仪(300-1800℃)


、我们的承诺

我们不仅提供高性能的设备,更提供全方位的技术支持与服务,确保您能充分发挥设备的潜力,加速研发进程。


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